Chất nền MgF2
Sự miêu tả
MgF2 được dùng làm thấu kính, lăng kính và cửa sổ cho bước sóng từ 110nm đến 7,5μm.Nó là vật liệu phù hợp nhất làm cửa sổ cho ArF Excimer Laser vì khả năng truyền tốt ở bước sóng 193nm.Nó cũng có hiệu quả như một chất phân cực quang học trong vùng tử ngoại.
Của cải
Mật độ(g/cm3) | 3.18 |
Điểm nóng chảy(°C) | 1255 |
Dẫn nhiệt | 0,3 Wm-1K-1 ở 300K |
Giãn nở nhiệt | Trục c song song 13,7 x 10-6 /oC Trục c vuông góc 8,9 x 10-6 /oC |
Độ cứng Knoop | 415 với đầu đo 100g (kg/mm2) |
Nhiệt dung riêng | 1003 J/(kg.k) |
Hằng số điện môi | 1,87 ở trục c song song 1 MHz 1,45 tại trục c vuông góc 1 MHz |
Mô đun Youngs (E) | 138,5 GPa |
Mô đun cắt (G) | 54,66 GPa |
Mô đun số lượng lớn (K) | 101,32 GPa |
Hệ số đàn hồi | C11=164;C12=53;C44=33,7 C13=63;C66=96 |
Giới hạn đàn hồi biểu kiến | 49,6 MPa (7200 psi) |
Tỷ lệ Poisson | 0,276 |
Định nghĩa cơ chất MgF2
Chất nền MgF2 dùng để chỉ chất nền làm từ vật liệu tinh thể magie florua (MgF2).MgF2 là một hợp chất vô cơ bao gồm các nguyên tố magie (Mg) và flo (F).
Chất nền MgF2 có một số đặc tính đáng chú ý khiến chúng trở nên phổ biến trong nhiều ứng dụng, đặc biệt là trong lĩnh vực quang học và lắng đọng màng mỏng:
1. Độ trong suốt cao: MgF2 có độ trong suốt tuyệt vời ở các vùng tia cực tím (UV), khả kiến và hồng ngoại (IR) của phổ điện từ.Nó có phạm vi truyền rộng từ tia cực tím ở khoảng 115 nm đến hồng ngoại ở khoảng 7.500 nm.
2. Chỉ số khúc xạ thấp: MgF2 có chỉ số khúc xạ tương đối thấp, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho lớp phủ AR và quang học, vì nó giảm thiểu phản xạ không mong muốn và cải thiện khả năng truyền ánh sáng.
3. Độ hấp thụ thấp: MgF2 có độ hấp thụ thấp ở vùng phổ tử ngoại và khả kiến.Đặc tính này làm cho nó hữu ích trong các ứng dụng đòi hỏi độ rõ quang học cao, chẳng hạn như thấu kính, lăng kính và cửa sổ cho tia cực tím hoặc tia khả kiến.
4. Tính ổn định hóa học: MgF2 ổn định về mặt hóa học, chịu được nhiều loại hóa chất và duy trì các đặc tính quang học và vật lý trong nhiều điều kiện môi trường.
5. Độ ổn định nhiệt: MgF2 có điểm nóng chảy cao và có thể chịu được nhiệt độ làm việc cao mà không bị suy giảm đáng kể.
Chất nền MgF2 thường được sử dụng trong lớp phủ quang học, quy trình lắng đọng màng mỏng và cửa sổ hoặc thấu kính quang học trong các thiết bị và hệ thống khác nhau.Chúng cũng có thể đóng vai trò là lớp đệm hoặc khuôn cho sự phát triển của các màng mỏng khác, chẳng hạn như vật liệu bán dẫn hoặc lớp phủ kim loại.
Các chất nền này thường được sản xuất bằng các kỹ thuật như lắng đọng hơi hoặc phương pháp vận chuyển hơi vật lý, trong đó vật liệu MgF2 được lắng đọng trên vật liệu nền phù hợp hoặc phát triển dưới dạng một tinh thể.Tùy thuộc vào yêu cầu ứng dụng, chất nền có thể ở dạng tấm wafer, tấm hoặc hình dạng tùy chỉnh.